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    真空鍍膜設備的膜厚如何測量?
    標簽: 真空鍍膜
    2022-07-27  閱讀

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      【康沃真空網】今天要介紹薄膜制作中有關膜厚的測定、基片的準備和清洗等問題。薄膜必須沉積在基底之上,所以離開了基片也就無從談薄膜沉積的問題?;那逑春脡挠謱Ρ∧さ馁|最有極共重要的影響。同時在薄膜的制作中還必須知道薄膜的厚度,脫離了薄膜的厚度來談薄膜性質的測最也是亳無意義的。所以,膜厚的測量和基片的清洗可以說是和薄膜制作相關的重要技術。

      一般所謂的厚度是指兩個完全平整的平行平面之間的距離,這個概念是一個幾何概念。理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之間的距離。在薄膜形貌的三維度量中,相對于薄膜的厚度來講,其他兩維的度量可以說是無窮大。由于實際上存在的表面是不平整和不連續的,而且薄膜的內部還可能存在著氣孔、雜質、晶格缺陷和表面吸附分子等等,所有要嚴格地定義和精確地測量薄膜的厚度實際上是很困難的。膜厚的定義位當根據測址的方法和測址的目的采決定。因此,同一個薄膜,使用不同的測量方法會得到不同的結果,即不同的厚度。

      在薄膜油測量中的表面并不是一個幾何的概念,而是一個物埋概念,是指表面分子(原子)的集合。平均表面是指表面原子所有的點到這個面的距離代數和等于零, 平均表面是一個兒何概念。

      我們通常將基片的一側的表面分子的集合的平均表面稱為基片表面;薄膜上不和基片接觸的那一側的表面的平均表面稱為薄膜的形狀表面,將所測量的薄膜原子重新排列,使其密度和大塊狀固體材料完全一樣且均勻的分布在基片表面上,這時平均表面稱為薄膜質量等價表面;根據所測量薄膜的物理性質等效為一種長度和寬度與所測量的薄膜一樣的大塊固體材料的薄膜,這時的平均表面稱為薄膜物性等價表面。

      形狀膜厚是最接近于直觀形式的膜厚,通常以μm為單位;質量膜厚反映了薄膜中包含物質為多少,通常以μg/cm'為單位,物性膜厚在實際使用上較有用,而且比較容易測最。

      由于實際表面并不平整,同時薄膜制作過程中又不可避免地要有各種缺陷、雜質和吸附分子等存在,所以不管用哪 一種方法來定義和測量膜厚,都是一個平均值, 而且足包 括了雜質、缺陷以及吸附分子在內的薄膜的厚度值。

      目前, 薄膜技術作為材料制備的新技術,已從實驗室的探索性研究轉而應用于大規模的工業生產,并且正在向各個行業中滲透,其應用范圍和作用還正在不斷地擴大和深化。

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